Tecnologías

La pulverización catódica con magnetrón RF es una deposición física de vapor (PVD) tecnología que utiliza potencia de RF para generar plasma entre el objetivo y el sustrato para lograr la deposición de una película delgada.

El recién desarrollado tecnología de arco plano de nuestra empresa ha traído grandes beneficios a recubrimiento al vacío. Utilizando la tecnología de arco plano, la capa de película del producto recubierto es más uniforme, más delicada y suave.

Utilizando una fuente de evaporación de plasma de arco, se genera plasma metálico de alta energía y alta densidad en un entorno de vacío específico. Bajo la acción de un voltaje de polarización negativa sobre la pieza de trabajo, se puede recubrir una película metálica sobre la superficie de metal, cerámica, etc., y se pueden recubrir películas compuestas como TIN y TIC mediante la introducción de gas de reacción. La capa de película es densa y tiene buena fuerza de unión. El equipo adopta un arco múltiple de tipo 100, con una gran superficie objetivo y una alta cobertura de recubrimiento, lo que favorece la uniformidad del color.

El recubrimiento de carburo cementado es un progreso importante en la tecnología moderna de investigación y desarrollo de carburo cementado. Esta tecnología utiliza un campo magnético para excitar iones en un ambiente de vacío, de modo que los átomos o moléculas en la superficie del material ganen suficiente energía para ser liberados del objetivo. y se deposita sobre el sustrato, proporcionando un recubrimiento de alta calidad para el molde.